Runway是一款由美国创业公司RunwayML开发的人工智能创作平台。该平台的目的是让用户可以在没有任何编程经验的情况下，轻松地使用机器学习技术进行创作和设计。Runway提供了一系列易于使用的工具和模型，使得用户可以通过简单的拖拽和点击操作，就能够训练自己的模型并生成高质量的艺术作品。